TSMC mit ASML: High-NA-EUV ab 2030 mit größeren Fotomasken geplant

TSMC hat nun auch erstmals öffentlich erklärt, ab 2030 auf High-NA-EUV von ASML zu setzen. Für größere Fotomasken sollen ab 2031 eine Pilotlinie in Betrieb gehen, ab 2033 dann das Format wirklich übernehmen. Da zeigt sich erneut, dass die Einführung von Neuheiten in der Branche Zeit braucht.