Intel High-NA-EUV: 1-Million-Wafer-Meilenstein und größere Fotomasken geplant

Intel feiert den Durchlauf von über einer Million Wafer durch seine High-NA-EUV-Maschinen von ASML. Größere Fotomasken sollen in Zukunft folgen, denn hier gibt es noch brachliegendes Potenzial bei den Kosten und der Wirtschaftlichkeit. Erst kürzlich hatte Intel dafür unter anderem einen Neubau gestartet.